SUI 2024, une rencontre universitaire autour de l’implantologie

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  • Publié le . Paru dans L'Information Dentaire n°11 - 20 mars 2024 (page 26-33)
Information dentaire
Il y a un peu moins de dix ans, Serge Armand, de l’Université de Toulouse, créait un congrès annuel qui avait pour but de réunir des Diplômes Universitaires Cliniques d’implantologie autour d’un partage des connaissances scientifiques ainsi que des pratiques chirurgicales et prothétiques de chacun. Au-delà de son intérêt scientifique, cette manifestation présente deux objectifs complémentaires : pour les responsables des DU, confronter les différentes modalités d’enseignement et enrichir leur méthode pédagogique ; pour les étudiants, tisser, au fil des éditions, un réseau relationnel qui permet secondairement d’entretenir des relations professionnelles au niveau hexagonal. Cette année, la 8e édition du Sommet Universitaire en Implantologie (SUI) s’est déroulée à Chamonix et elle a rassemblé 14 DU (voir encadré). Retour sur cette rencontre riche d’échanges.

Au cours d’une journée très dense, chaque intervenant représentant son Diplôme Universitaire a pris la parole pour présenter un cas traité durant sa formation, une technique originale ou un travail de recherche clinique en rapport avec l’implantologie. Chaque intervention a été suivie d’échanges nourris avec l’assistance dont les questions ont montré un intérêt certain pour les travaux présentés.

Ainsi, Mathilde Devun, de Bordeaux, a ouvert la matinée en présentant une communication sur l’intérêt clinique d’un nouvel ostéotome dans l’élévation sinusienne par voie crestale. Dans les situations de faible hauteur osseuse des secteurs postérieurs maxillaires, deux méthodes d’élévation de la membrane sinusienne peuvent être utilisées afin d’implanter dans ces régions, soit par voie crestale à l’aide d’ostéotomes, soit par abord latéral qui permet une plus grande élévation mais qui s’avère plus invasive.

La technique d’élévation par voie crestale décrite par Summers en 1994 [1] est rapportée comme fiable, avec un taux de succès implantaire d’environ 95 % quand la hauteur d’os résiduel est supérieure à 5 mm et que le gain attendu d’élévation de la membrane de Schneider est limité à 4 mm (fig. 1). La complication la plus fréquente est la perforation de cette membrane.

L’étude conduite à Bordeaux vise à valider une nouvelle forme d’ostéotome (fig. 2) dont l’architecture permettrait un protocole plus efficient en termes d’impaction et de fracture du fragment osseux sous-sinusien sans déchirure de la membrane. Trente-trois pièces anatomiques humaines fraîches [2] ont été utilisées pour réaliser des élévations sinusiennes par voie crestale de 4 et 8 mm en utilisant le protocole décrit avec cet instrument. L’intégrité et le comportement de la membrane sinusienne ont été analysés et les résultats montrent l’efficacité du protocole…

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