Implants : étanchéité du cône « Morse »

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Information dentaire

La connexion implant-pilier à hexagone externe, très largement utilisée, laisse un hiatus susceptible de laisser pénétrer les bactéries, ce qui pourrait résulter en une inflammation locale et une perte osseuse. Cela a conduit à rechercher un type de connexion qui ne permet pas la pénétration bactérienne.
Dans la connexion cône contre cône, du type « Morse », l’interface est plus centrale et donc plus à distance des tissus péri-implantaires, mais surtout, ce système permet un contact plus intime des surfaces qui serait impénétrable aux bactéries. Le but de la présente étude était de vérifier la capacité de quatre systèmes de connexion à cône « Morse » à s’opposer au passage des bactéries.
Les piliers ont été vissés sur les implants et plongés dans un bouillon de culture contenant des Streptococcus sanguis pendant 48 heures. Ils ont ensuite été observés au microscope électronique à balayage de trois façons : 1) assemblés pour vérifier la présence de hiatus et de bactéries ; 2) séparés pour examiner les surfaces internes ; 3) réassemblés pour mesurer les hiatus observés.
Les résultats montrent que des hiatus ont été détectés dans les quatre systèmes de connexion, sans différence statistiquement significative. La présence de bactéries à l’intérieur a été détectée dans tous les échantillons. Chez certains, l’espace entier du hiatus était rempli de volumineuses colonies.

En conclusion, les résultats de cette étude montrent qu’au moins dans quatre systèmes commercialisés de connexions à cône « Morse » il existe un hiatus suffisant pour laisser pénétrer les bactéries communément trouvées dans la cavité buccale. Ainsi, le concept selon lequel toutes les connexions à cône « Morse », offrent une étanchéité qui bloque la pénétration des bactéries ne semble pas valide.

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