L’élévation sinusienne par voie latérale est une technique fréquemment utilisée en implantologie pour compenser une perte osseuse verticale au niveau du maxillaire postérieur, lorsque la hauteur osseuse résiduelle est insuffisante pour permettre la pose d’un implant.
Cependant, dans certains cas, des défauts de cicatrisation du plancher sinusien peuvent apparaître. Ces défauts ou discontinuités peuvent survenir en raison de divers facteurs, notamment une perte osseuse traumatique après l’extraction d’une dent et la combinaison de la pneumatisation du sinus avec une résorption extrême de l’os alvéolaire.
Selon des études antérieures, la prévalence des défauts du plancher sinusien varie de 2 à 4,35 % [1] bien que la littérature sur ce sujet reste limitée.
Dans ces conditions anatomiques extrêmes, l’adhésion entre la membrane de Schneider et le lambeau muco-périosté peut entraîner de grandes perforations dans des zones où l’accès visuel et chirurgical est limité. De plus, cela peut introduire un risque de déplacement et de contamination de la greffe osseuse. La gestion de ces défauts de cicatrisation est donc cruciale pour garantir une régénération optimale et un résultat clinique satisfaisant.
Les membranes de collagène, qui sont souvent utilisées en régénération osseuse guidée (ROG), servent à protéger le site de régénération et à éviter la croissance des tissus mous dans l’espace osseux. Cependant, leur résorption rapide et leur faible résistance mécanique peuvent limiter leur efficacité dans certains cas complexes, notamment lorsqu’il y a nécessité d’un gain vertical [2]. Ainsi, l’utilisation de membrane non résorbable renforcée titane ou de grille titane formant une structure rigide peut être utilisée. Malheureusement, l’utilisation de ces outils nécessite leur dépose et également comporte un risque infectieux nécessitant une dépose précoce [3].
Dans ce contexte…
